Diffusion Growth of Mn4Si7 Silicide Phase Inclusions of Cylindrical Shape in Mn–Si Thin-Film System

We study the process of diffusion formation of Mn4Si7 silicide phase inclusions in films, obtained by deposition of Mn and Si (24% Mn + Si) on a substrate of Si (001) monocrystalline silicon. We utilize the methods of X-ray diffraction analysis, electron microscopy, and mass spectrometry of secondary ions for our experiments. Furthermore, computer simulation within the frame of the model of cylindrical inclusions growth in a supersaturated solid solution allows analyzing concentration allocation of the diffusant, which depends on time, kinetics of inclusions growth, etc.

Publication year: 
2010
Issue: 
2
УДК: 
517.946.9
С. 93—99, укр., Іл. 6. Бібліогр.: 10 назв
References: 

1. Сидоренко С.І., Макогон Ю.М., Волошко С.М. Матеріалознавство тонкоплівкових наноструктур. Дифузія і реакції. — К.: Наук. думка, 2000. — 572 с.
2. Макогон Ю.Н., Сидоренко С.И., Яременко Н.Н. Роль примесей при формировании тонкопленочных силицидов Мо // Физика и химия обработки материалов. — 1990. — 3. — С. 60—63.
3. Макогон Ю.Н. Влияние термообработки на фазовый состав пленок титана на кремниевых подложках //Изв. АН СССР. Сер. Неорганические материалы. — 1991. — 27, № 1. — С. 18—24.
4. Sidorenko S.I., Makogon Yu.N., Voloshko S.M. et al. Multistage model of the diffusion formation NiSi2 silicide phase inclusions in the thin film system Ni (10 nm)/Si (001) // Defect and Diffusion Forum. — 2008. — 280- 281. — P. 9—14.
5. Julies B.A., Knoesen D., Pretorius R., Adams D. A study of the NiSi to NiSi2 transition in the Ni-Si binary system //Thin Solid Films. — 1999. — 347. — Р. 201—207.
6. Сидоренко С.И., Волошко С.М., Березовский А.А. и др. Математическая модель роста сферических включений новой фазы в пересыщенных твердых растворах //Металлофизика и новейшие технологии. — 2003. — 25, № 4. — С. 431—443.
7. Сидоренко С.И., Волошко С.М., Березовский С.А. и др. Математическая модель роста цилиндрических включений новой фазы в жаропрочных сплавах // Там же. — № 3. — С. 397—407.
8. Сидоренко С.І., Березовська Л.М., Волошко С.М. Математичне моделювання процесів дифузії. — К.: Наук.думка, 2007. — 324 с.
9. Сидоренко С.І., Волошко С.М., Макогон Ю.М. та ін. Багатостадійна модель дифузійного формування включень силіцидної фази NiSi2 в плівковій системі Ni/Si(001) // Металлофизика и новейшие техноло- гии. — 2005. — 27, № 10. — С. 101—108.
10. Любов Б.Я. Диффузионные процессы в неоднородных твердых средах. — М.: Наука, 1981. — 314 с.

AttachmentSize
2010-2-14.pdf538.06 KB

Тематичні розділи журналу

,