Влияние термической обработки на фазообразование в многослойной пленочной композиции [Ta(3,3 нм)/Si(6,6 нм)][sub]45[/sub]/Si (001) и ее оптические свойства

Методами спектральной эллипсометрии, рентгеноструктурного фазового анализа, резистометрии исследовано влияние термической обработки на фазообразование в периодической (45 бислоев) многослойной пленочной композиции (МПК) [Ta(3,3 нм)/Si(6,6 нм)]45/Si(001) со средним по объему составом TaSi2. Установлены закономерности изменения оптических свойств и энергетического спектра электронов в результате потери трансляционной симметрии в дисилициде тантала.

Год издания: 
2009
Номер: 
3
УДК: 
539.216.2:661.685
С. 35–41, укр., Іл. 11. Бібліогр.: 20 назв.
Литература: 

1. Tien Н., Ottaviani G., Tu K.N. Kinetics of crystallization Ta-Si // J. Appl. Phys. — 1983. — 54, N 12. — P. 7056— 7062.
2. Maa J.-S., Magee C.W., O’Neill J.J. Phosphorus out diffusiton from double-layers tantalum silicide polycrystalline silicon structure // J. Vac. Sci. B. — 1983. — 1, N 1. — P.1—5.
3. Daneshvar K. The rapid isothermal annealing of tantalum silicide // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. — 1985. — B.10/11. — P. 529—531.
4. Natan M. Structure and properties of rapidly thermal annealed Ta/Si multilayers // J. Vac. Sci. Technol. — 1985. — B.3. — 6. — P.1707—1714.
5. Makogon Yu.N., Maximovich L.P., Sidorenko S.I. Phase formation processes and electrical properties of tantalumsilicon thin films // Met. Phys. Adv. Tech. — 1996. — 15. — P. 969—973.
6. Makogon Yu.N., Sidorenko S.I. The influence of annealing atmosphere on crystallization inside films of molybdenum and tungsten disilicides on silicon // Ibid. — 16. — P. 261—268.
7. Бугаев Е.А., Макогон Ю.Н., Павлова Е.П., Сидоренко С.И. Влияние условий осаждения на структурнофазовый состав пленок ТаSi2 на Si // Металлофизика и новейшие технологии. — 2001. — 23, № 5. — C. 609— 613.
8. Sidorenko S.I., Макоgоn Yu.N., Pavlova E.P. The Influence of Deposition Conditions on the Development of Solid State Reactions in the Ta-Si Thin Film System // Proceedings of the DIMAT-2000. Defect and Diffusion Forum. — 2001. — 194-199. — P. 1643—1646.
9. Dub S., Makogon Yu., Pavlova E., Sidorenko S. Deformation Curves of Ta-Silicide Thin Films obtained in Cyclic Nanoindentation Experiments // Z. Metallkunde. — 2001. — 92, N 9. — P. 1057—1060.
10. Дуб С.Н., Макогон Ю.H., Павлова Е.П., Сидоренко С.И. Влияние структурно-фазового состава тонких пленок дисилицида тантала на их механические свойства // Металлофизика и новейшие технологии. — 2002. — 24, № 1. — С. 61—73.
11. Sidorenko S.I., Makogon Yu.N., Beke D.L. et al. Formation of nanocrystalline structure of TaSi2 films on silicon // Powder metallurgy. — 2003. — 1-2. — P. 16—21.
12. Сидоренко С.И., Макогон Ю.Н., Дуб С.Н. и др. Исследование наноструктуры и механических свойств пленок TaSi2 на кремнии // Металлофизика и новейшие технологии. — 2003. — 25, № 6. — С. 737—745.
13. Uspenskii Yu. A., Fedorenko A.I., Fedotov V.Yu. et al. High-Reflectivity Multilayer Mirrors for a VUV Interval of 35—50 nm // Surface Investigation. — 1999. — 15. — P. 103—107.
14. Бугаев Е.А., Зубарев Е.Н., Кондратенко В.В. и др. Структурные и фазовые превращения в многослойных рентгеновских зеркалах при их конденсации и отжиге // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. — 1999. — № 1. — С. 102—110.
15. Зубарев Е.Н., Кондратенко В.В., Севрюкова В.А. и др. Влияние структурного состояния слоев молибдена на образование межфазных перемешанных зон в многослойных композициях Мо/Si // Металлофизика и новейшие технологии. — 2002. — 24, № 10. — С. 1429—1437.
16. Решетняк Е.П., Малыхин С.В., Першин Ю.П., Пугачев А.Т. Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si // Вопр. атомной науки и техники. — 2003. — № 3. — С. 161—166.
17. Lee Y.P., Kim K.W., Kudryavtsev Y.V. et al. Solid-state reaction in Ti/Ni multilayers studied by magneto-optical and optical spectroscopies, and X-ray difraction // Eur. Phys. Jour. B. — 2002. — 26. — P. 41—50.
18. Аззам Р., Башара Н. Эллипсометрия и поляризованый свет. — М.: Мир, 1981. — 584 с.
19. Поут Д., Ту К., Майер Д. Тонкие пленки: взаимная диффузия и реакции. — М.: Мир, 1982. — 576 с.
20. Технология СБИС / Под ред. С. Зи. — М.: Мир, 1986. — 454 с.

Полнотекстовый документSize
2009-3-5.pdf385.17 KB

Тематичні розділи журналу

,