Павлова Е.П.

Влияние условий отжига на структуру и магнитные свойства наноразмерной пленочной композиции Fe50Pt50(15 нм)/ Ag(30 нм)/Fe50Pt50(15 нм)/SiO2(100 нм)/Si(001)

Изучено влияние промежуточного слоя Ag и длительности отжига в вакууме при температуре 600 °С на формирование химически упорядоченной фазы L10(FePt) в наноразмерной пленочной композиции (НПК) Fe50Pt50(15 нм)/Ag(30 нм)/Fe50Pt50(15 нм) на планарной подложке SiO2(100 нм) /Si(001).

Влияние температуры отжига на структуру и магнитные свойства наноразмерной пленочной композиции Fe50Pt50(15 нм)/ Ag(30 нм)/Fe50Pt50(15 нм)/SiO2(100 нм)/Si(001)

Изучено влияние температуры отжига в вакууме интервале 300–900 °С иьпромежуточного слоя серебра на процессы диффузионного фазообразования и переход химически неупорядоченной магнитномягкой фазы А1(FePt)ГЦК в химически упорядоченную магнитнотвердую фазу L10(FePt)ГЦТ в наноразмерной пленочной композиции (НПК) Fe50Pt50(15 нм)/Ag(30 нм)/Fe50Pt50(15 нм) на подложке SiO2(100 нм)/Si(001). Исследованы ее структура, морфология и магнитные характеристики. Показано, что после осаждения в исследуемой НПК фиксируется фаза А1(FePt)ГЦК.

Ферромагнитный резонанс в наноразмерных пленках Fe-Pt

Изучено влияние фазового состава и структуры наноразмерных пленок Fe-Pt толщиной 10 и 30 нм на их магнитные свойства, в частности на изменение формы линий ферромагнитного резонанса (ФМР). Пленки были осаждены на подложку термически окисленного (слой SiO2 толщиной 100 нм) монокристаллического Si ориентации (001), которая находилась при комнатной температуре. Отжиги образцов проводились в вакууме ∼1,3⋅10 −3∼1 Па в интервале температур 100–900 °С с выдержкой 30 с при каждой температуре.

Структура и магнитные свойства наноразмерной пленки Fe50Pt50 на планарной подложке SiO2(100 нм)/Si(001)

Изучено влияние условий отжига в вакууме интервале температур 300–900 °С на формирование химически упорядоченной фазы L10(FePt) в наноразмерной пленочной композиции (НПК) Fe50Pt50(15 нм)/Ag(3 нм)/Fe50Pt50(15 нм) на планарной подложке SiO2(100 нм)/Si(001). Исследованы ее структура, морфология и магнитные характе-ристики. Показано, что формирование фазы L10(FePt) происходит при отжиге 700 °С длительностью 30 с и скорости нагрева 5 °С/с.

Влияние условий отжига на структуру и магнитные свойства наноразмерных пленок Fe50Pt50 на планарных подкладках SiO2(100 нм)/Si(100)

Изучено влияние промежуточного слоя Ag толщиной 3 нм и длительности отжига в вакууме при температуре 600 ° на формирование химически упорядоченной фазы L10(FePt) в наноразмерной пленочной композиции (НПК) Fe50Pt50(15 нм)/Ag(3 нм)/ Fe50Pt50(15 нм) на планарной подложке SiO2(100 нм)/Si(100). Исследованы ее структура и магнитные характеристики. Показано, что формирование фазы L10(FePt) происходит во время отжига длительностью 30 мин. Последующее увеличение длительности отжига не приводит к фазовым превращениям.

Диффузионный рост включений силицидной фазы Mn4Si7 цилиндрической формы в тонкопленочной системе Mn–Si

Исследован процесс диффузионного формирования включений силицидной фазы Mn4Si7 в пленках, полученных осаждением Mn и Si (24 % Mn + Si) на подложку монокристаллического кремния Si(001). Экспериментальные исследования проведены с использованием методов рентгенофазового анализа, электронной микроскопии, маспектрометрии вторичных ионов. Компьютерное моделирование в рамках модели роста включений цилиндрической формы в среде пересыщенного твердого раствора позволило проанализировать концентрационное распределение диффузанта в зависимости от времени, кинетику роста включений и т.д..

Исследование механических напряжений в тонкопленочных композициях пленка Ta(100–540 нм)/монокристалл Si(001)

Изучено влияние основных параметров получения тонкопленочных композиций Та(100–540 нм)/ Si(001) – температуры подложки при осаждении пленки Та, толщины осажденной пленки Та, а также параметров их последующей термообработки в интервале температур 570–1070 К на величину и знак возникающих механических напряжений. Описаны возможные механизмы возникновения напряжений в исследованных пленочных композициях.

Фазообразование в пленочной композиции Ti(200 нм)/Cu(200 нм)/Ti(100 нм)/SiO[sub]2[/sub](370 нм) на монокристаллическом кремнии ориентации (001)

Методами рентгеновской дифракции, растровой электронной микроскопии и резистометрии исследованы твердотельные реакции в пленочной композиції Ti(200 нм)/Cu(200 нм)/Ti(100 нм)/SiO2(370 нм) на монокристаллическом кремнии ориентации (001). Исследуемая пленочная композиция была получена последовательным электронно-лучевым осаждением слоев элементов в вакууме не ниже 10-4 Па без развакуумирования на подложку кремния со слоем оксида на поверхности. Вакуумные отжиги образцов проводились в температурном интервале 770–1170 К на протяжении одного часа.

Влияние термической обработки на фазообразование в многослойной пленочной композиции [Ta(3,3 нм)/Si(6,6 нм)][sub]45[/sub]/Si (001) и ее оптические свойства

Методами спектральной эллипсометрии, рентгеноструктурного фазового анализа, резистометрии исследовано влияние термической обработки на фазообразование в периодической (45 бислоев) многослойной пленочной композиции (МПК) [Ta(3,3 нм)/Si(6,6 нм)]45/Si(001) со средним по объему составом TaSi2. Установлены закономерности изменения оптических свойств и энергетического спектра электронов в результате потери трансляционной симметрии в дисилициде тантала.

Твердотельные реакции в пленочной композиции Ti (200 нм)/Cu (200 нм)/Ti (10 нм)/ Sio2(370 нм) на монокристаллическом кремнии (001)

Методами рентгеновской дифракции, просвечивающей электронной микроскопии поперечных срезов (cross-section), растровой электронной микроскопии и резистометрии исследованы твердотельные реакции в пленочной композиции Ti(200 нм)/Cu(200 нм)/Ti(10 нм)/SiO2(370 нм) на монокристаллическом кремнии ориентации (001). Исследуемая пленочная композиция была получена последовательным электронно-лучевым осаждением слоев элементов в вакууме не ниже 10−4 Па без развакуумирования на подложку кремния со слоем оксида на поверхности.