Павлова О.П.

Павлова Олена Петрівна, доктор технічних наук, старший науковий співробітник Національного технічного університету України “Київський політехнічний інститут”.

Вплив тривалості відпалу на структуру і магнітні властивості нанорозмірної плівкової композиції Fe50Pt50(15 нм)/ Ag(30 нм)/Fe50Pt50(15 нм)/SiO2(100 нм)/Si(001)

Вивчено вплив проміжного шару Ag і тривалості відпалу в вакуумі за температури 600 °С на формування хімічно впорядкованої фази L10(FePt) в нанорозмірній плівковій композиції (НПК) Fe50Pt50(15 нм)/Ag(30 нм)/Fe50Pt50(15 нм) на планарній підкладці SiO2(100 нм)/Si(001).

Вплив температури відпалу на структуру і магнітні властивості нанорозмірної плівкової композиції Fe50Pt50(15 нм)/ Ag(30 нм)/Fe50Pt50(15 нм)/SiO2(100 нм)/Si(001)

Вивчено вплив температури відпалу в вакуумі в інтервалі температур 300—900 °С і прошарку срібла на процеси дифузійного фазоутворення та перехід хімічно невпорядкованої магнітном’якої фази А1(FePt)ГЦК в хімічно впорядковану магнітнотверду фазу L10(FePt)ГЦТ в нанорозмірній плівковій композиції (НПК) Fe50Pt50(15 нм)/Ag(30 нм)/Fe50Pt50(15 нм) на підкладці SiO2(100 нм)/Si(001). Досліджено її структуру, морфологію і магнітні характеристики. Показано, що після осадження в досліджуваній НПК фіксується фаза А1(FePt)ГЦК.

Феромагнітний резонанс у нанорозмірних плівках Fe-Pt

Вивчено вплив фазового складу і структури нанорозмірних плівок Fe-Pt товщиною 10 і 30 нм на їх магнітні властивості, зокрема зміну форми ліній феромагнітного резонансу (ФМР). Плівки були осаджені на підкладку термічно окисненого (шар SiO2 товщиною 100 нм) монокристалічного Si орієнтації (001), яка перебувала при кімнатній температурі. Відпали зразків проводились у вакуумі ∼1,3⋅10 −3∼1 Па в інтервалі температур 100—900 °С з витримкою 30 с при кожній температурі. Лінії ФМР були отримані в магнітному полі, прикладеному паралельно до площини плівки, після відпалів при різних температурах.

Структура і магнітні властивості нанорозмірної плівки Fe50Pt50 на планарній підкладці SiO2(100 нм)/Si(001)

Вивчено вплив умов відпалу в вакуумі в інтервалі температур 300—900 °С на формування хімічно впорядкованої фази L10(FePt) в нанорозмірній плівковій композиції (НПК) Fe50Pt50(15 нм)/Ag(3 нм)/Fe50Pt50(15 нм) на планарній підкладці SiO2(100 нм)/Si(001). Досліджено її структуру, морфологію, магнітні характеристики. Показано, що формування фази L10(FePt) відбувається під час відпалу при температурі 700 °С тривалістю 30 с і швидкості нагріву 5 °С/с.

Вплив умов відпалу на структуру і магнітні властивості нанорозмірних плівок Fe50Pt50 на планарних підкладках SiO2(100 нм)/Si(100)

Вивчено вплив проміжного шару Ag товщиною 3 нм і тривалості відпалу в вакуумі при температурі 600 °С на формування хімічно впорядкованої фази L10(FePt) в нанорозмірній плівковій композиції (НПК) Fe50Pt50(15 нм)/Ag(3 нм)/ Fe50Pt50(15 нм) на планарній підкладці SiO2(100 нм)/Si(100). Досліджено її структуру і магнітні характеристики. Показано, що формування фази L10(FePt) відбувається під час відпалу тривалістю 30 хв. Подальше збільшення тривалості відпалу не призводить до фазових перетворень.

Дифузійний ріст включень силіцидної фази Mn[sub]4[/sub]Si[sub]7[/sub] циліндричної форми в тонкоплівковій системі Mn—Si

Досліджено процес дифузійного формування включень силіцидної фази Mn4Si7 в плівках, отриманих осадженням Mn і Si (24 % Mn + Si) на підкладинку монокристалічного кремнію Si(001). Експериментальні дослідження проведено із застосуванням методів рентгенофазового аналізу, електронної мікроскопії, мас-спектрометрії вторинних іонів. Комп’ютерне моделювання в рамках моделі росту ансамблю включень циліндричної форми в середовищі пересиченого твердого розчину дало можливість проаналізувати концентраційний розподіл дифузанту залежно від часу, кінетику росту включень тощо.

Дослідження механічних напружень у тонкоплівкових композиціях плівка Ta(100 – 540 нм)/монокристал Si(001)

Вивчено вплив основних параметрів отримання тонкоплівкових композицій Та(100 – 540 нм)/Si(001) – температури підкладки під час осадження плівки Та, товщини осадженої плівки Та, а також параметрів їх подальшої термообробки в інтервалі температур 570 – 1070 К на величину і знак механічних напружень. Дано опис можливих механізмів виникнення напружень у досліджених плівкових композиціях.

Фазоутворення у плівковій композиції Ti(200 нм)/Cu(200 нм)/Ti(100 нм)/SiO[sub]2[/sub](370 нм) на монокристалічному кремнію орієнтації (001)

Методами рентгенівської дифракції, растрової електронної мікроскопії і резистометрії досліджені твердотільні реакції в плівковій композиції Ti(200 нм)/Cu(200 нм)/Ti(100 нм)/SiO2(370 нм) на монокристалічному кремнії орієнтації (001). До сліджувану плівкову композицію отримано послідовним електронно-променевим осадженням шарів елементів у вакуумі не нижче 10-4 Па без розвакуумування на підкладку кремнію з ша ром оксиду на поверхні. Вакуумні відпали зразків про водились у температурному інтервалі 770 – 1170 К протягом од нієї години.

Вплив термічної обробки на фазоутворення в багатошаровій плівковій композиції [Ta(3,3 нм)/Si(6,6 нм)][sub]45[/sub]/Si (001) та її оптичні властивості

Методами спектральної еліпсометрії, рентгеноструктурного фазового аналізу і резистометрії досліджено вплив термічної обробки на фазоутворення в періодичній (45 бішарів) багатошаровій плівковій композиції (БПК) [Ta(3,3 нм)/Si(6,6 нм)]45/Si(001) з середнім за об’ємом складом TaSi2. Встановлено закономірності змін оптичних властивостей і енергетичного спектра електронів внаслідок втрати трансляційної симетрії в дисиліциді танталу.

Твердотільні реакції в плівковій композиції Ti(200 нм)/Cu(200 нм)/Ti(10 нм)/SiO2(370 нм) на монокристалічному кремнії (001)

Методами рентгенівської дифракції, просвічувальної електронної мікроскопії поперечних перерізів (cross-section),растрової електронної мікроскопії та резистометрії досліджено твердотільні реакції в плівковій композиції Ti(200 нм)/ Cu(200 нм)/Ti(10 нм)/SiO2(370 нм) на монокристалічному кремнії орієнтації (001). Досліджувану плівкову композицію було отримано послідовним електроннопроменевим осадженням шарів елементів у вакуумі не нижче 10 − 4 Па без розвакуумування на підкладку кремнію з шаром оксиду на поверхні.